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      2. 南光真空

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        真空表面處理技術的分類
         
         

        表面處理目的

        處理方法

        粒子運動
        能    量

        工作方式

        等離子體

        高真空

        薄膜
        沉積
        (表
        面厚
        度增
        加)

        PVD

        真空蒸發鍍膜

        0.1~1ev

        等離子熔煉輝光放電分解

        電阻加熱蒸發
        加子束蒸發
        真空電弧蒸
        真空感應蒸發
        真空感應蒸發
        分子束外延

        真空濺射鍍膜

        10~
        100ev

        放電方式:直流、交流、高頻。
        電極數止:2級、3級、4級。
        反應濺射:磁控濺射、對向靶濺射。

        離子束濺射鍍膜

        真空離子鍍膜

        數10~
        500ev

        直流二級型
        多陰極型
        ARE型、增強ARE
        HCD型
        高頻型

        單-離子束鍍膜
        集團離子束鍍膜

        CVD

        化學反應
        熱擴散

        等離子增強化學氣相沉積(PCVD)

        低壓等離子化學氣相沉積(LPCVD)

        微細
        加工
        (表
        面厚
        減少 )

        離子刻蝕

        數百ev~
        數kev

        高頻濺射刻蝕、等離子刻蝕、反應離子刻蝕。

        離子束刻蝕、反應離子束刻蝕、電子束刻蝕、X射線曝光。

        表面
        改性
        (不改變表
        面厚度)

        離子注入

        數kev~
        1000kev

        活性離子沖擊離子氮化

        離子注入

         
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